EUV技术令半导体行业资本支出攀升，设备厂成最终赢家
2019-11-06 15:35:40 来源：东方头条

集微网消息（文/Vivian）,据中央社报道，台积电、英特尔和三星为打造体积更小、性能更强的处理器，纷纷投入极紫外光（EUV）技术，相关设备花费不菲，导致3家厂商资本支出直线攀升，ASML等半导体设备厂则获益良多。

与常用光源相比，采用EUV的系统能让芯片电路更加微缩，但其相应的制造成本也跟着水涨船高。主要由于EUV光刻设备价格高昂。

ASML称，第3季光售出7套EUV系统就进帐7.43亿欧元，等于每套系统要价超过1亿欧元。这还不包括半导体制程控管与测试设备成本。因此，晶圆代工龙头厂商资本支出大增成为趋势。

台积电10月召开业绩发布会时宣布今年资本支出达140亿至150亿美元，高于原先设定目标近40%，创下台积电单年资本支出最高纪录。英特尔随后宣布加码3%，今年资本支出目标达160亿美元，创公司成立以来最高纪录，比两年前高出36%。

三星也在上周宣布，今年半导体事业资本支出约200亿美元。三星公布的金额略少于去年，但业内分析师表示，三星今年大幅减少投资存储器生产，是为了将更多的资源投入下一代晶圆代工厂。

晶圆代工厂资本支出大增的同时，意味着半导体设备厂将获益良多。ASML表示，第3季单季接23套EUV系统订单，创单季订单金额最高记录；半导体制程控管设备制造商科磊上周公布，会计年度第1季营收年增率达29%，并表示EUV投资是业绩增长的主要因素。

据悉，明年EUV需求预料更加旺盛，半导体设备厂前景向好。

（校对/holly）